Metoda wytwarzania grafenu do celów przemysłowych, opracowana przez warszawskich naukowców, uzyskała ochronę patentową na całym świecie.
Osiągnięcie daje im silną pozycję w konkurencji o fundusze z europejskiego programu Flag Ship, który od 2012 roku na badania nad grafenem ma przeznaczać 100 milionów euro rocznie przez 10 kolejnych lat.
Polskie osiągnięcie, o którym pisało znane, specjalistyczne czasopismo "Nano-Letters", spotkał się z zainteresowaniem zarówno ze strony ośrodków badawczych z całego świata, jak i podmiotów biznesowych. Grafen otrzymywany metodami chemicznymi może wyprzeć krzem jako główny budulec sprzętów elektronicznych, w tym komputerów, ale może też służyć do wytwarzania przezroczystych elektrod w ogniwach słonecznych, superkondensatorów czy ogniw wodorowych.
Dr inż. Strupiński, twórca metody wytwarzania grafenu do celów przemysłowych, mówi, że już zgłaszają się do naukowców różne grupy biznesowe, a rozmowy są bardzo zaawansowane. Wspiera ich również Ministerstwo Gospodarki, które kojarzy warszawskich odkrywców z firmami krajowymi i zagranicznymi, które mogłyby zainwestować w działalność związaną z grafemem.
Polskie osiągnięcie, o którym pisało znane, specjalistyczne czasopismo "Nano-Letters", spotkał się z zainteresowaniem zarówno ze strony ośrodków badawczych z całego świata, jak i podmiotów biznesowych. Grafen otrzymywany metodami chemicznymi może wyprzeć krzem jako główny budulec sprzętów elektronicznych, w tym komputerów, ale może też służyć do wytwarzania przezroczystych elektrod w ogniwach słonecznych, superkondensatorów czy ogniw wodorowych.
Dr inż. Strupiński, twórca metody wytwarzania grafenu do celów przemysłowych, mówi, że już zgłaszają się do naukowców różne grupy biznesowe, a rozmowy są bardzo zaawansowane. Wspiera ich również Ministerstwo Gospodarki, które kojarzy warszawskich odkrywców z firmami krajowymi i zagranicznymi, które mogłyby zainwestować w działalność związaną z grafemem.